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光觸媒是一種以納米級二氧化鈦為代表的具有光催化功能的光半導體材料的總稱。
光觸媒材料主要有納米TiO2、、CdS、WO3、Fe2O3、PbS、SnO2、ZnS、SrTiO3、SiO2等，2000年以來又發(fā)現(xiàn)一些納米貴金屬（鉑、銠、鈀等）具有更好的光催化性能，但由于其中大多數(shù)易發(fā)生化學或光化學腐蝕，而貴金屬成本則過高，都不適合作為家居凈化空氣用光催化劑。
在所有的光觸媒材料中，納米TiO2不僅具有很高的光催化活性，且具有耐酸堿腐蝕、耐化學腐蝕、無毒等優(yōu)點，價格也適中，具有較高的性價比，因而市場上大多使用納米二氧化鈦作為主要原材料。
對于納米級物料的分散，容易出現(xiàn)團聚的現(xiàn)象，納米二氧化鈦的分散也不例外。團聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過程中相互連接、由多個顆粒形成較大的顆粒團簇的現(xiàn)象。由于團聚顆粒粒度小，表面原子比例大，比表面積大，表面能大，處于能量不穩(wěn)定狀態(tài)，因而細微的顆粒都趨向于聚集在一起，很容易團聚，形成團聚狀的二次顆粒，乃至三次顆粒，使粒子粒徑變大，在每個顆粒內(nèi)部有細小孔隙。
納米顆粒的團聚一般分為兩種：軟團聚和硬團聚。對于軟團聚機理，人們的看法比較*，即，軟團聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致，由于作用力較弱，可以通過一些化學作用或施加機械能的方式來消除。
上海思峻應(yīng)對納米級物料的分散，研發(fā)出新型設(shè)備，高剪切研磨分散機，將膠體磨和分散機一體化的設(shè)備，納米級漿料進入研磨分散后，行研磨將團聚體打開，然后再經(jīng)過分散工作組，進行分散，避免再次團聚。
光觸媒研磨分散機是高剪切膠體磨+高剪切分散機的設(shè)備，將兩者一體化，解決了時間差的問題，因為物料團聚是一個瞬間的過程，研磨后立即分散，效果好，效率高。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
光觸媒分散機，納米光觸媒分散機，，SGN高剪切研磨分散機是納米物料分散設(shè)備中*，在多個領(lǐng)域的納米分散中都有著突出的應(yīng)用。如：納米二氧化鈦、納米二氧化硅、石墨烯、碳納米管、納米樹脂、納米涂料等！
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